据国外报道，荷兰光刻机制造商ASML已经确认将向客户交付最新款的EUV光刻机EXE:5200。这款新机型相比上一代产品来说更为强大，因此不会向中国厂商销售。
官方表示，EXE:5200是初代High NA EUV光刻机EXE:5000的升级版。新款光刻机拥有更高的晶圆吞吐量，即每小时可加工185片以上晶圆，能够更好地支持2nm工艺的量产。
此前，ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机，这是一种具有高数值孔径和每小时200多片晶圆的极紫外（EUV）大批量生产系统。这一举动标志着他们在引入0.55 NA EUV技术方面又取得了重要进展。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均配备了0.55数值孔径的透镜，相较于前代EUV光刻机所采用的0.33数值孔径透镜精度有了显著提高。这将为更小尺寸晶体管功能提供更高分辨率的模式。
该EUV 0.55 NA技术旨在从2025年开始应用于多个未来节点，并随后将采用类似密度的内存技术加以推广。
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